“我們的路線圖充滿希望和野心,因?yàn)槿遣粏螁沃皇怯?jì)劃這些新的工藝制程,而是在這些時(shí)間點(diǎn)上真的能夠?qū)崿F(xiàn)預(yù)定的計(jì)劃”三星市場(chǎng)高級(jí)總監(jiān)Kelvin Low如此說(shuō)道。
根據(jù)三星的計(jì)劃,在未來(lái)三年內(nèi)也就是2017年至2020年,三星半導(dǎo)體的工藝制程將一步一個(gè)腳步的前進(jìn)。比如今年試產(chǎn)8nm工藝,2018年量產(chǎn)7nm工藝,2019年則成功研發(fā)6nm以及5nm工藝,至于2020年,三星希望直接將工藝制程推進(jìn)至4nm。
此外,三星方面還表示,自家晶圓廠所使用的光刻機(jī)目前已經(jīng)可以達(dá)到每天1000片晶圓的產(chǎn)量,未來(lái)三星希望它的產(chǎn)能可以再提高50%(1500片)。值得注意的是,三星還計(jì)劃在2018年為自家的晶圓制造業(yè)務(wù)引進(jìn)世界上最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)!
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